龙图光罩专注于半导体光罩研发领域，其2024年营收为18.3亿元

发布时间：2025年09月28日

一、主要业务

深圳市龙图光罩股份有限公司是中国领先的半导体光罩（掩膜版）研发制造企业，成立于2011年，2022年登陆科创板。公司专注于集成电路及显示面板用光罩产品的研发、生产与销售，构建了从设计服务、工艺开发到制造检测的全产业链能力，产品涵盖IC制造光罩、先进封装光罩、显示面板光罩及微纳光学元件等核心品类，广泛应用于半导体芯片、平板显示、微机电系统等领域。作为国家级专精特新“小巨人”企业，龙图光罩自主研发的90nm节点半导体光罩关键尺寸均匀性达±10nm，缺陷密度＜0.05个/cm²，性能对标美国Photronics、日本DNP等国际巨头。公司客户覆盖中芯国际、华虹集团、京东方等龙头企业，半导体光罩国内市场占有率位居前列，并参与制定《集成电路光罩技术规范》行业标准。近年来，公司积极布局28nm及以上先进制程光罩、第三代半导体光罩等前沿领域，推动光罩技术向高精度、大尺寸方向发展。

2024年深圳市龙图光罩股份有限公司总营收及产品占比情况

二、核心竞争力分析

1、光罩全流程技术自主可控与工艺创新能力

龙图光罩的核心竞争力首先体现在“设计-制版-检测”的全链条技术布局上。公司突破电子束直写技术，实现90nm节点图形定位精度达±20nm，线宽均匀性提升至±8nm；在缺陷控制领域，开发出多层膜堆叠工艺，反射率均匀性＞99.5%，缺陷控制能力达到国际先进水平。技术延伸性强，将半导体光罩技术迁移至显示领域，开发出G8.6代大尺寸光罩，基板尺寸达2200×2500mm，套刻精度＜1μm。产业链协同上，关键材料（如石英基板、遮光膜）自主化率超60%，成本较进口降低30%，并建成Class 100洁净生产线，产品良率达99.5%。

2、半导体产业链深度协同与定制化服务能力

通过“标准光罩+定制方案”双轨模式，公司构建了高壁垒的客户生态。为逻辑芯片定制的高精度光罩，支持多项目晶圆（MPW）流片，客户产品开发周期缩短50%；在功率半导体领域，开发出第三代半导体专用光罩，耐压等级达1200V，图形转移精度提升至±15nm。服务创新上，建立“工艺设计套件（PDK）库"，提供100+种工艺组合；设立联合研发团队，与晶圆厂共同开发特色工艺光罩方案，新产品导入周期缩短至2周。头部客户复购率超90%，并主导制定《微电子光罩缺陷检测方法》国家标准。

3、技术前瞻与国产化替代战略布局能力

龙图光罩以“成熟制程保规模、先进制程拓增量”战略把握半导体国产化机遇。技术端布局28nm节点光罩，开发出相移掩模技术，对比度提升至200%，分辨率增强效果显著；在先进封装领域，推出硅通孔（TSV）光罩，深宽比达10:1，满足2.5D/3D集成需求。产学研合作方面，与清华大学共建“微纳加工联合实验室”，攻关EUV光罩基板技术；产业化方面，通过VDE、UL认证，产品进入国际半导体设备商供应链，海外收入占比提升至25%。